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氮氣發(fā)生器的使用操作規(guī)范
點擊次數(shù)：1413 更新時間：2023-06-07
氮氣發(fā)生器是一種用于制取高純度氮氣的設備，它能夠將空氣中的雜質去除，使得生成的氮氣品質更加穩(wěn)定和可靠。因此，在許多領域都有著廣泛應用，比如在電子、化學、醫(yī)藥等行業(yè)。
一、儀器基本原理
1、空壓機：利用空壓機對大量空氣進行壓縮，并存放在儲罐內(nèi)。
2、制冷系統(tǒng)：通過制冷系統(tǒng)降低空氣溫度并凝結其中的水分。
3、分離裝置：分離出水分及其它雜質, 以獲得較為純凈且穩(wěn)定的高品質 氧/ 氮混合物。
4、儲存裝置：將產(chǎn)生的高品質 氧/ 氮混合物儲存在容積足夠大、安全性良好同時易于管理與使用 的儲罐內(nèi)。
二、使用方法
1、接通電源和管道后，打開控制面板上相應按鈕來啟動設備。
2、調(diào)整輸出流量和壓力值至所需范圍之內(nèi)，并開始運行設備。
3、在正常操作時，請監(jiān)測各項指標是否處于規(guī)定范圍內(nèi)，如有異常請及時處理。
4、在設備停止工作或者需要更換配件的時候，請注意安全操作。
三、使用注意事項
1、使用前，進行相關規(guī)范的檢測和校準以確保儀器正常運行，并記錄好相應參數(shù)。
2、設備只能由專業(yè)人員操作，并且要按照正確程序進行操作。不得隨意開啟或強制關閉系統(tǒng)等危險行為。
3、避免長期在高溫、潮濕環(huán)境下使用氮氣發(fā)生器, 應定期對其外殼清潔并加以防腐護理.
4、將設備維修與大型維護服務委托給資質服務機構完成，并按照規(guī)定周期進行日常保養(yǎng)維修工作。
四、適用領域
1、半導體產(chǎn)業(yè): 在微電子制造過程中，氮氣被廣泛應用于DRIE(深刻蝕刻), LPCVD(低壓化學汽相沉積), CVD (化學汽相沉積) 等一系列關鍵技術中。同時也可以用于晶圓盒封裝后的干燥和存放過程中。
2、化學實驗：用氫/ 氦載氧火焰離子色譜儀時，就是一個重要的配件。
3、醫(yī)藥制造：在醫(yī)藥制造過程中, 氮氣往往被用作一種干燥和保護性載體。
氮氣發(fā)生器是實驗室中常見設備之一，在許多領域都有著廣泛應用。溫馨提示大家在使用過程中要注意安全問題，并按照操作規(guī)范進行相應的維護與保養(yǎng)工作。
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